国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清：这是北京高能同步辐射光源

近期，一则消息在各大视频平台广为传布，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机庞大化，实现了光刻机国产化，并暗示这个项目已经在雄安新区落地。
对此，中国电子工程设想院有限公司（下称中国电子院）9月18日发声，称该项目并非网传的国产光刻机工场，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。
北京高能同步辐射光源项目座落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”严重科技根本设备，它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是天下上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。该项目早在2019年就起头扶植、将于2025年末投入利用。

HEPS是干嘛用的呢？它的感化是经过加速器将电子束加速到6GeV，然后注入周长1360米的贮存环，用接近光速的速度连结运转。电子束在贮存环的分歧位置经过弯转磁铁大概各类插入件时就会沿着偏转轨道切线的偏向，开释出稳定、高能量、高亮度的光，也就是同步辐射光。
中国电子院诠释称，HEPS可以看成是一个超紧密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机，它发生的小光束可以穿透物资、深入内部停止立体扫描，从份子、原子的标准多维度地观察微观天下，HEPS是停止科学尝试的大科学装配，并不是网传的光刻机工场。
中国电子院称，该项目由全国勘测设想大师、国投团体首席科学家娄宇带队，中国电子院多个技术科研和设想团队协同合作，从项目可研立项到项目落地霸占了多项技术和工艺难关。今朝高能同步辐射光源配套工程已周全完工。


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