国产光刻机，真的有突破了吗？

（最初一图总结被卡脖子现状）

大师好，我是很帅的狐狸
明天来聊聊
EUV光刻机
上周看到市场在传，说我国冲破了被「卡脖子」的EUV光刻机技术。
我研讨了下后发现，实在这只是自媒体们在乱发挥，操纵了我们被华为手机炒起来的爱国情怀……
哦，游资们也顺势拉了拉几只芯片股。

必定咱自己国家的科技进步，这没啥题目，但我们也要大白「希望越大失望越大」的事理。
所以我明天筹算来聊聊这个消息，看看现真相况是怎样的，顺带给大师梳理一下我们今朝还被卡脖子的环节。
Part 1

消息是怎样传出来的？

先说下布景——
光刻机嘛，望文生义，就是用光在晶圆上停止「雕镂」，「刻」出微型电路，所以在芯片范畴是必不成少的。
我们也可以造出光刻机——上海微电子可以造出分辨率90nm的光刻机，听说28nm的也有望冲破。
不外，假如你平常比力关注这个话题的话，应当也晓得现在美国拉了荷兰卡我们脖子的，主如果7nm的光刻机。
7nm以下的光刻机用的波长更小的是EUV（极紫外线），今朝这类光刻机只要荷兰公司ASML才能造得出来。

然后到了周五的时辰，有一些股票群起头传了这张图——

后来有人挖到了说，实现的技术是清华2021年在《自然》杂志颁发的论文提到的「稳态微聚束」（SSMB）。
也有人用了更轻易了解的配图——

按照各个群里传播的说法，此次的技术冲破相当于——我们生产了大量的橙子，里头什么巨细都有。
这样我们可以把分歧巨细别离筛出来，给分歧的需求用。

作为分析师的第一反应是——
这是2021年就公布的论文，为什么现在才拿来炒作？
我也没发现有什么新停顿啊……
随后，我又看到有推波助澜者在传下面这几张配图——

要说明的是，这个配图跟SSMB不是一回事——这个是在怀柔的「高能同步辐射光源」（HEPS）。
我看了下清华的论文综述，确认了这个HEPS跟SSMB不是一个工具——

表格里的这四类光源都可以发生EUV。
其中，LPP是今朝ASML光刻机的首要技术。
而同步辐射（SR）是个很成熟的技术了，不外它的光功率达不到EUV光刻大范围量产的需求。
确切来说，用同步辐射要做到1nm的光刻也OK，就是实在是太贵了……

而SSMB由于有高亮度、高功率的特点，所以用来替换LPP理论上没啥题目。
那末题目就来了——
SSMB能帮我们冲破被卡脖子的光刻机技术吗？
Part 2

⚙️ 技术实现了冲破？

理论上，SSMB确切可以利用到光刻机上，不外从尝试室到产业化还有很远的间隔。

我挖了下，清华2021年的时辰还在申请要建一个「稳态微聚束极紫外光源研讨装配」（申报列为「十四五」国家严重科技根本设备）。
随后在客岁12月份，跟雄安新区签了个《河北雄安新区治理委员会、清华大学关于配合支持“稳态微聚束(SSMB)极紫外光源设备”项目标合作意向书》。
最新停顿是3月份副校长曩昔实地考查了下SSMB项目标选址地址。

而即使SSMB加速器光源研讨装配扶植出来了，也只是造了部「打印机」而已……
确切，我们也可以用这部打印机，用「间接光刻法」，经过移动光源「画」出电路板。
可是假如要量产的话，还是需要「复印机」的，一般用的是「掩模法」。
这里稍微诠释下「掩模法」的道理——

相当于先做了个模子，然后让一部分光漏曩昔。
漏曩昔的光会再经过一个透镜，缩小成本来大要1/4的巨细。
然后这些被缩小的光会射到基板上。
基板上提早上好了光刻胶，光刻胶被光射到的部分经过烘烤、显影后会消融。
这么处置后，就构成了集成电路。

而咱不单单在光源部分被卡脖子……
「复印机」有三个焦点部分：激光光源、物镜系统、工作台。
所以光是在激光光源冲破了EUV技术也没用，物镜系统和工作台咱也得跟上才行。
那末题目就来了——
今朝咱都有哪些环节被卡？
Part 3

咱都有哪些环节被卡？

我按照民生证券的研报《光刻机各环节国产化情况》整理了下面的图表，一图胜千言——

需要留意的是，我参考的那份报告是4月下旬出的。
所以曩昔这几个月也能够会有些变化。
不外我不是一向在这个行业里头的，所以没跟得那末紧。
业内助士晓得的话可以留言斧正。
还是希望自力思考的人多一些，这样才不会被某些人操纵了我们的爱国豪情。

一旦我们的豪情被消耗光了，那带来的失落感反而会反噬我们。
「Greed is good.」
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参考材料/
《g线、i线、KrF、ArF、ArFi、EUV六代光刻机，中国处于什么水平？》《光刻机各环节国产化情况》《中科院高能所 20210628 102556 高能同步辐射光源扶植迎来严重节点_哔哩哔哩_bilibili》《同步辐射光源：从一代到四代 董宇辉 中科院高能所_20210623_哔哩哔哩_bilibili》《最“亮”的光照亮微观天下探访高能同步辐射光源》《冲破把持！国产双工件台打破ASML把持，EUV光刻机进程加速！》《【集成电路产业科普】双工件台国产化使命负担者——华卓精科 - 知乎》《对标ASML！光刻机焦点器件，中国破冰双工件台，理想芯制程达7nm》《9月15日涨停复盘：光刻机概念延续爆发，结合紧密6连板！HEPS概念、一体化压铸概念午后突起》《HEPS不是光刻机，而是光刻厂》《中国首台高能同步辐射光源出束，估计年末到达最高能量60亿电子伏特》《我国首台高能同步辐射光源将于2025年末扶植完成》《冲破把持！国产双工件台打破ASML把持，EUV光刻机进程加速！》《高能同步辐射光源（HEPS）及光束线站_哔哩哔哩_bilibili》《高能同步辐射光源总批示潘卫民：造大型加速器，霸占“卡脖子”困难 - 封面消息》《稳态微聚束加速器光源.pdf》《光刻机为什么不用同步辐射光？- 知乎》《Strategy to realize the EUV-FEL high power light source - Present status on the EUV-FEL R&D activities -》《清华工物系在新型加速器光源 “稳态微聚束”研讨中获得重猛停顿-清华大学》《高能同步辐射光源》《稳态微聚束加速器光源》《河北清华成长研讨院工作简报》


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