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[新闻] 中国光刻机技术成功攻克7nm！荷兰：三十年努力不如东方几年？

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halyshop 发表于 2020-11-9 20:21:42 | 只看该作者 打印 上一主题 下一主题
 
如今，中国的光刻机技术已经成功突破了7nm，荷兰对此表示：我们长达三十年的苦心研制难道还不如东方花费几年突破的技术吗？

中国光刻机技术成功攻克7nm！荷兰：三十年努力不如东方几年？ 第1张图片




相信大家也都知道，中国在半导体领域一直是存在短板的，虽然中国也早就开始研制此领域的技术，但是核心技术我们是无法得知的。因此在需要此领域技术的时候，中国就需要进口其他国家的技术，而中国对于半导体行业是非常依赖荷兰这个国家的。我们都知道，荷兰的光刻机技术一直是领先全世界各国的，虽然中国愿意向荷兰结识，但是这个国家总是不领情，给中国出口的光刻机不是涨价，就是把淘汰的光刻机给中国送来，对此中国也是束手无策的，所以现在突破光刻机技术对于中国来说是迫在眉睫的。

中国光刻机技术成功攻克7nm！荷兰：三十年努力不如东方几年？ 第2张图片




其实中国在光刻机领域已经下了很大功夫，只不过一直都没有什么突破，从而我们中国也知道换个策略了。这次在中科院宣布入局后，很多中企也开始自己研制光刻机技术，因为只有自己突破技术才不会依赖他人。除了自己研制，之前日本的尼康也曾想与中国合作，鉴于尼康曾经非常的有实力，我们国家也愿意与尼康进行合作。这次中国对外宣布：我们自主研制的N+1工艺技术已经抵得上台积电的7nm的制程了。

中国光刻机技术成功攻克7nm！荷兰：三十年努力不如东方几年？ 第3张图片



当荷兰知道后，也是表示难道我们在光刻机努力三十年难道不如中国的几年吗？看的出来，荷兰也非常担心会超越他们，害怕中国成为他们的对手。对此你有什么看法？

中国光刻机技术成功攻克7nm！荷兰：三十年努力不如东方几年？ 第4张图片






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标签：荷兰日本中国的三十年半导体
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