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[新闻] 荷兰反水供应光刻机,美连夜商讨,发现早已为时已晚

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深湖觅鲸i 发表于 2020-10-30 13:15:19 | 只看该作者 打印 上一主题 下一主题
 
引言

如今,我国在科技以及军事领域中取得了巨大的成就,其中华为取得技术突破也是在国际中大放光彩。但由于芯片以及光刻机的短缺,让我们意识到了我们在半导体行业中依旧处于卡脖子阶段。但在近段期间,荷兰也是突然反水继续给我国供应光刻机,尽管美国连夜商讨却早已发现已经为时已晚。

荷兰反水供应光刻机,美连夜商讨,发现早已为时已晚 第1张图片

光刻机的重要性

光刻机是半导体行业中最为重要的一个设备,如果没有顶级的光刻机,那么芯片的制造也就止步不前。如今,光刻机一直被荷兰的ASML企业垄断,再加上美国的缘故,因此他们也不允许将光刻机对我国出口,尽管我们目前掌握了28nm以及16nm工艺的技术,但依旧无法满足我们的需求。

荷兰反水供应光刻机,美连夜商讨,发现早已为时已晚 第2张图片

荷兰反水供应光刻机

面对这样的情况,我国的华为以及中科院也宣布入局,那即是为了突破这一难关。而在前不久,中芯国际企业也是实现了7nm工艺的N+1流片,据了解,不需要经过光刻机就能直接生产出这样的芯片。面对这样的场景,荷兰的ASML也是突然发生,甚至不用美国点头就能共赢DUV光刻机,这一幕也是让人感到意外。如今,美国也是连夜商讨或将把半导体加工业搬回自己国内,但发现早已为时已晚。

荷兰反水供应光刻机,美连夜商讨,发现早已为时已晚 第3张图片


据了解,荷兰之所以会迅速变卦,也是出于利益着想,毕竟我国市场庞大,因此一旦我国取得突破那么他们就会损失巨大。所以不用出口先进的光刻机,就能成功占据我国市场,所以也是一举两得。不管怎样,我们还是要自主研发,才能真正的突破技术垄断。

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